特許

J-GLOBAL ID：200903055742050283

磁気ディスク用基板の製造方法

発明者： 真壁 保志 ,  茂 智雄 ,  福谷 正憲
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-204353
公開番号（公開出願番号）：特開2001-034934
出願日： 1999年07月19日
公開日（公表日）： 2001年02月09日
要約：

【要約】【課題】 うねり、ポリッシュ痕、及び微小凹凸をなくし、磁気ヘッドの浮上性に優れると共に、電磁変換特性、エラー特性、並びに耐食性等にも優れた磁気ディスクを得ることができる、表面平滑性に優れた磁気ディスク用基板の製造方法を提供する。【解決手段】 表面に導電層を有する磁気ディスク用基板1の表面を電気分解処理するにおいて、基板1を回転させつつ、該基板1表面上に電解液2を流動させながら、基板1表面との間に間隙を設けて配した陰極材3と陽極印加した基板1との間で該間隙に流入した電解液2により通電させて、基板1の円周方向一表面で電気分解処理すると共に、該基板1表面に圧着させて配したクリーニング材5により電気分解処理後の基板1をその円周方向他表面で摩擦クリーニング処理する磁気ディスク用基板の製造方法。

請求項（抜粋）：

表面に導電層を有する磁気ディスク用基板の表面を電気分解処理するにおいて、基板を回転させつつ、該基板表面上に電解液を流動させながら、基板表面との間に間隙を設けて配した陰極材と陽極印加した基板との間で該間隙に流入した電解液により通電させて、基板の円周方向一表面で電気分解処理すると共に、該基板表面に圧着させて配したクリーニング材により電気分解処理後の基板をその円周方向他表面で摩擦クリーニング処理することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。

Fターム (7件)：

5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112EE01 ,  5D112GA08 ,  5D112GA26 ,  5D112GA30