特許
J-GLOBAL ID：200903055756331935
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-176880
公開番号（公開出願番号）：特開平6-020912
出願日： 1992年07月03日
公開日（公表日）： 1994年01月28日
要約：
【要約】【目的】 投影露光装置の投影光学系に入射する照明光の偏光状態により生じる基板上の直交する2軸方向での焦点差を最小とし、実質的な焦点深度を増大する。【構成】 光源1と投影光学系PLとの間に直線偏光板40を配置する。直線偏光板40を回転し、その偏光方向が基板上の直交する2軸方向での焦点差が最小となる位置で回転を停止する。この状態で露光を行うことにより、実質的な焦点深度を増大する。また、円偏光板41を投影光学系PLとウエハWとの間に配置することにより、偏光方向による結像特性の方向性をなくし、さらに良好な結像特性を得る。
請求項（抜粋）：
光源から射出された光で所定のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と前記パターンを投影光学系を介して感光基板上に結像する投影露光装置において、前記光源と前記投影光学系との間に設けられた偏光状態調整手段と;前記偏光状態調整手段を前記投影光学系の光軸と垂直な面内で回転させ、前記感光基板上の直交する2軸方向での夫々の焦点位置を相対的に移動させる駆動手段と;前記夫々の焦点位置の差を最小とするように前記駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
