特許

J-GLOBAL ID：200903055758212224

マルチビーム走査光学装置

発明者： 藤本 誠
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-354129
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174353
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 レーザ光量の利用率を高くでき、しかも高速で高画質な画像を得ることができるマルチビーム走査光学装置を得ること。【解決手段】 複数の発光部を列状に配したレーザ光源1から画像情報に応じて光変調され射出した複数の光ビームを第1の光学系を介して偏向手段4に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光ビームを第2の光学系を介して被走査面8上に導光し、該被走査面上を複数の光ビームで同時に光走査する際、該第1の光学系は集光レンズ2と副走査方向にパワーを有するシリンドリカルレンズ3とを有し、また各条件式を満足するように各要素を設定したこと。

請求項（抜粋）：

複数の発光部を列状に配したレーザ光源から画像情報に応じて光変調され射出した複数の光ビームを第1の光学系を介して偏向手段に導光し、該偏向手段で偏向された複数の光ビームを第2の光学系を介して被走査面上に導光し、該被走査面上を複数の光ビームで同時に光走査するマルチビーム走査光学装置において、該第1の光学系は集光レンズと副走査方向にパワーを有するシリンドリカルレンズとを有し、該第2の光学系の副走査方向における横倍率をβf、該集光レンズの焦点距離をfCO、該シリンドリカルレンズの副走査断面内の焦点距離をfCL、該レーザ光源の発光面から該集光レンズの主平面までの光学長をe1 、該集光レンズの主平面から該シリンドリカルレンズの主平面までの光学長をe2 としたとき、【数1】なる条件を満足するように各要素を設定したことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。