特許

J-GLOBAL ID：200903055758985088

新規なポリマー及びレジスト組成物

発明者： 藤江 啓利 ,  左右木 徹 ,  浦野 文良
出願人/特許権者： 和光純薬工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-262653
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081137
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：

【要約】【課題】紫外線、特に300 nm以下の遠紫外線光、KrFエキシマレーザ光等に対して高透明性を有し、これ等光源による露光や電子線、軟X線照射に対して高い感度を有し、耐熱性や基板密着性に優れ、高解像性能を有し、パターン形状が経時的に変動せずに精度の高いパターンが得られ、基板依存性がなく、裾引きやスカムが発生しないことはもとより、特に近年の0.15μmルールを利用した超微細化において顕著になっているパターン側壁及び表層の荒れ及び近接効果の影響を改善したポリマー及びこれを用いたレジスト組成物の提供。【解決手段】分子内に酸の作用で離脱する性質及びラジカル的に架橋する性質を併せ持つ官能基を懸垂するモノマー単位を構成単位として含んでなるポリマー。

請求項（抜粋）：

分子内に酸の作用で離脱する性質及びラジカル的に架橋する性質を併せ持つ官能基を懸垂するモノマー単位を構成単位として含んでなるポリマー。

IPC (6件)：

C08F212/14 ,  C08F299/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

C08F212/14 ,  C08F299/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (82件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  4J002BC041 ,  4J002BC121 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG061 ,  4J002BG071 ,  4J002BJ002 ,  4J002EK037 ,  4J002EK047 ,  4J002EK057 ,  4J002EN028 ,  4J002EN068 ,  4J002EN098 ,  4J002EN138 ,  4J002EQ017 ,  4J002ET007 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EV216 ,  4J002EV296 ,  4J002FD020 ,  4J002FD050 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J027AA08 ,  4J027AJ01 ,  4J027AJ06 ,  4J027CA24 ,  4J027CA25 ,  4J027CB03 ,  4J027CB04 ,  4J027CC05 ,  4J027CC06 ,  4J027CC07 ,  4J027CD10 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100AB07T ,  4J100AE82P ,  4J100AE83P ,  4J100AL02S ,  4J100AL08S ,  4J100AL75P ,  4J100BA02P ,  4J100BA02T ,  4J100BA04R ,  4J100BA04T ,  4J100BA05P ,  4J100BA05R ,  4J100BA06R ,  4J100BA12R ,  4J100BA15R ,  4J100BA20R ,  4J100BA21S ,  4J100BC07S ,  4J100BC43P ,  4J100BC43T ,  4J100BC53R ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38