特許
J-GLOBAL ID：200903055764848599
MEMS構造物及びその作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-357674
公開番号（公開出願番号）：特開2003-191199
出願日： 2002年12月10日
公開日（公表日）： 2003年07月08日
要約：
【要約】【課題】 基板上に固定された固定部と基板上から浮き上がった浮上部とが互いに堅固に連結されており、浮上部の長さの調節が精度良く制御でき、また他の回路との電気的連結が容易なMEMS構造物及びその作製方法を提供する。【解決手段】 基板上に積層された犠牲層を、固定部が形成される領域に対応する領域を取り囲むグルーブ状の空間が形成されるようにパターニングし、パターニングされた犠牲層上にMEMS構造物層を積層して、空間内に側壁を形成するとともに、犠牲層上に固定部と浮上部とを形成し、犠牲層をエッチング液を用いて除去することで、固定部の下部の犠牲層を側壁によってエッチング液から保護し、犠牲層のうち側壁によって取り囲まれている部分を除いた残り部分を取り除くことで、浮上部の下部の犠牲層だけを取り除く。
請求項（抜粋）：
基板に対し固定された固定部、及び該固定部と連結され前記基板上に浮き上がった浮上部を備えたMEMS構造物を作製する方法であって、前記基板上に犠牲層を積層させる段階と、前記犠牲層をパターニングし、前記固定部が形成される領域に対応する領域の少なくとも一部分を取り囲む空間を形成する段階と、前記犠牲層上にMEMS構造物層を積層して、前記空間内に側壁を形成し前記犠牲層上に前記固定部と前記浮上部を形成する段階と、前記犠牲層をエッチング液を用いて除去する段階と、を含み、前記除去段階では、前記固定部に対応する前記犠牲層の一部分に、前記側壁によって前記エッチング液の供給が遮断され、前記犠牲層のうち前記側壁によって取り囲まれた部分を除いた残り部分が除去されることを特徴とするMEMS構造物の作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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