特許
J-GLOBAL ID:200903055775338509

表面輪郭測定のための装置および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-552052
公開番号(公開出願番号):特表2003-519786
出願日: 2001年01月03日
公開日(公表日): 2003年06月24日
要約:
【要約】オブジェクト表面上のポイントの三次元位置情報を測定する装置および方法。一実施形態において、上記方法は、スペクトル分布を有する2つの放射ソースを提供する工程と、上記ソースの各々で上記表面を照射して第1の縞パターンを生成する工程と、上記第1の縞パターンを第2の位置に移動させる工程と、第1のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第1の縞パターン中の縞数を推定する工程と、該第1の縞パターンを変化させる工程と、該第2の縞パターンを第2の位置に移動させる工程と、第2のラップされたサイクルマップを生成する工程と、該第2の縞パターン中の縞数を推定する工程と、上記第2の縞パターンおよび上記第2のラップされたサイクルマップ中の推定された縞数に応答して位置情報を判定する工程とを含む。
請求項(抜粋):
表面を有するオブジェクト上において、該オブジェクトの表面上のポイントの三次元位置情報を判定する方法であって、 a)スペクトル領域の空間分布を有する2つの放射ソースを提供する工程と、 b)該ソースそれぞれからの放射で該表面を照射して、該表面上の第1の位置に第1の縞パターンを生成する工程と、 c)該第1の縞パターンを第2の位置に移動させる工程と、 d)該第1の縞パターンの第1の位置および第2の位置に応答して、第1のラップされたサイクルマップを生成する工程と、 e)該第1の縞パターン中の縞数を推定する工程と、 f)該第1の縞パターンを変更して、第1の位置において第2の縞パターンを生成する工程と、 g)該第2の縞パターンを第2の位置に移動させる工程と、 h)該第2の縞パターンの第1の位置および第2の位置に応答して、第2のラップされたサイクルマップを生成する工程と、 i)該第1の縞パターン中の推定された縞数に応答して、該第2の縞パターン中の縞数を推定する工程と、 j)該第2の縞パターンおよび該第2のラップされたサイクルマップ中の推定された縞数に応答して、該ポイントの該表面上での三次元位置情報を判定する工程と、を包含する、方法。
Fターム (21件):
2F065AA04 ,  2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD03 ,  2F065FF07 ,  2F065GG04 ,  2F065HH06 ,  2F065HH12 ,  2F065HH18 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL04 ,  2F065LL13 ,  2F065LL32 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065QQ31 ,  2F065QQ41 ,  2F065UU05 ,  2F065UU07

前のページに戻る