特許
J-GLOBAL ID:200903055776390385
基板への塗布液塗布装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
間宮 武雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-012139
公開番号(公開出願番号):特開平7-112151
出願日: 1994年01月07日
公開日(公表日): 1995年05月02日
要約:
【要約】【目的】 基板の片面だけに塗布液を比較的簡便に塗布することができ、その際に塗布液の汚れが生じることがなく、塗布液の必要使用量も少なくて済み、設置床面積が少なく、構成も簡易な塗布装置を提供する。【構成】 基板10を鉛直姿勢又は前方もしくは後方方向に傾斜した姿勢に保持するステージ12と、基板の幅方向に延在する樋状本体部16及びその両側端面を閉塞する両側枠部18からなる塗布液槽14と、この塗布液槽を基板に沿って下方へ直線移動させる手段とから構成する。樋状本体部の前端面と基板の被塗布面とは、非接触でかつ近接させる。塗布液槽に、樋状本体部の前面枠部20を越える量の塗布液24を注入したとき、基板の被塗布面に接液部26が形成されるようにする。
請求項(抜粋):
被塗布基板を鉛直姿勢又は前方方向もしくは後方方向へ傾斜した姿勢に保持する基板保持手段と、前面枠部が後面枠部より低く形成された有底の、前記基板保持手段に保持された被塗布基板の幅方向に延在する樋状本体部と、この樋状本体部の両側端面を閉塞する両側枠部とから構成されて、前記樋状本体部の前端面が基板保持手段に保持された被塗布基板の被塗布面に非接触でかつ近接するように水平方向に配設され、樋状本体部の前端面と被塗布基板の被塗布面との間に隙間を保ったまま被塗布基板に対しその縦方向に相対的に移動自在に保持された塗布液槽と、この塗布液槽と前記基板保持手段に保持された被塗布基板とを相対的に直線的に移動させる直動手段とからなり、前記塗布液槽に、その樋状本体部の前面枠部を越える量の塗布液を注入したときに、前記基板保持手段によって保持された被塗布基板の被塗布面に、前面枠部から溢れ出た塗布液と接する接液部が形成される、基板への塗布液塗布装置。
IPC (4件):
B05C 3/18
, B05C 13/00
, G03F 7/16
, H01L 21/30
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特公平5-072578
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特公昭61-015749
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特公昭60-038982
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