特許

J-GLOBAL ID：200903055786426973

電磁気誘導加速器

発明者： 朴 源 澤
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 磯野 道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-417016
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200169
出願日： 2003年12月15日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：

【課題】プラズマイオンの速度を容易に調節でき、異方性、選択性、膜均質度及び工程再現性に優れるエッチング工程に利用可能な電磁気誘導加速器を提供する。【解決手段】所定間隔離隔されて内部及び外部に同軸に並べて位置し、軸方向に誘導磁場が減少するように形成された内部及び外部円形ループインダクター101、103と、この内部及び外部円形ループインダクター101,103の間にこれらと接触するように配置された誘電層105と、前記誘電層105の間の誘導磁場によって二次電流が誘導されるチャンネル107と、チャンネル107にパルスエネルギーを供給してプラズマを生成する放電コイル109とによって、電磁気誘導加速器を構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

所定間隔離隔されて内部及び外部に同軸に並べて位置し、軸方向に誘導磁場が減少するように形成された内部及び外部円形ループインダクターと、 前記内部及び外部円形ループインダクター間に前記内部及び外部インダクターと接触する誘電層を備え、前記誘電層間の誘導磁場によって二次電流が誘導されるチャンネルと、 前記チャンネルにパルスエネルギーを供給してプラズマを生成する放電コイルと、を備える電磁気誘導加速器。

IPC (3件)：

H05H15/00 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

FI (3件)：

H05H15/00 ,  H05H1/46 L ,  H01L21/302 101C

Fターム (10件)：

2G085AA20 ,  2G085BA05 ,  2G085BA12 ,  2G085BB11 ,  2G085BB20 ,  2G085BC03 ,  2G085BC04 ,  2G085EA08 ,  5F004BA20 ,  5F004DB02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5847593号明細書