特許

J-GLOBAL ID：200903055807239141

位相シフトマスクのシフター欠陥修正方法

発明者： 福島 祐一
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-314366
公開番号（公開出願番号）：特開平9-160221
出願日： 1995年12月01日
公開日（公表日）： 1997年06月20日
要約：

【要約】【課題】位相シフトマスクに存在する前記シフター欠陥を、精度良く、能率良く、且つ生産性良く修正し、露光転写により当該シフター欠陥に起因する不要なパターンの結像が起きないように出来る修正方法を提供する。【解決手段】光透過部あるいは位相シフト部に存在し、凸状形状をなし、且つ位相シフト性を備えたシフター欠陥を修正する場合、(イ)基板のパターン面側にネガ型フォトレジストを塗布した後、基板の反対面 側から露光することにより、少なくとも該シフター欠陥のエッジ部分を自己整合的に遮光して未露光にしておき、次いで現像を行ないレジストパターンを形成する工程、(ロ)しかる後に、該レジストパターンの開口部にある凸状形状のシフター欠陥を、該シフター欠陥が存在している局所的な領域と同等な位相面に達するまでエッチングによって除去した後に、該レジストパターンを除去する。

請求項（抜粋）：

光透過部あるいは位相シフト部に存在し、凸状形状をなし、且つ位相シフト性を備えたシフター欠陥を修正する場合、(イ)基板のパターン面側にネガ型フォトレジストを塗布した後、基板の反対面側から露光することにより、少なくとも該シフター欠陥のエッジ部分を自己整合的に遮光して未露光にしておき、次いで現像を行ないレジストパターンを形成する工程、(ロ)しかる後に、該レジストパターンの開口部にある凸状形状のシフター欠陥を、該シフター欠陥が存在している光透過部あるいは位相シフト部の本来の位相面とほぼ同等な深さに達するまでエッチングによって除去した後に、該レジストパターンを除去する工程、以上(イ)および(ロ)を具備することを特徴とする位相シフトマスクのシフター欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 T ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528