投影露光用フォトマスクパターン、投影露光用フォトマスク、焦点位置検出方法、焦点位置制御方法および半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前田弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-261439
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102061
出願日： 1997年09月26日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】位相差を生み出すような複雑なフォトマスクを用いなくとも、焦点位置のズレを一回の露光により検出することのできる投影露光用フォトマスクパターン、投影露光用フォトマスク、焦点位置検出方法、焦点位置制御方法および半導体装置の製造方法を提供する。【解決手段】焦点位置検出用フォトマスクパターンとして、周辺遮光部分10むの内側に中央遮光部分20を配置している。中央遮光部分20の各辺にはくさび型の微細な突起状パターン22、24が複数個形成されている。このパターンは、左右非対称(上下非対称)であり、左辺(下辺)では遮光部分22がくさび型であるが、右辺(上辺)では隣接する遮光部分24の間に位置する開口部の形状がくさび型である。露光時の焦点位置ズレは、中央遮光部20の転写パターンの水平方向位置ズレとして検出される。

請求項（抜粋）：

中央遮光部と、前記中央遮光部から第1方向に沿って延びる複数の第1突起状遮光部分と、前記中央遮光部から前記第1方向とは反対の方向に沿って延びる複数の第2突起状遮光部分とを備えた投影露光用フォトマスクパターンであって、前記中央遮光部から離れた位置に配置され、前記第1方向に垂直な第2方向に沿って延びる部分を含む周辺遮光部を更に備え、前記複数の第1突起状遮光部分および前記複数の第2突起状遮光部分は、前記第2方向に沿って周期的に配列されており、前記複数の第1突起状遮光部分の先端の幅は、前記複数の第1突起状遮光部分の間隔よりも小さく、しかも、前記複数の第2突起状遮光部分の先端の幅は、前記複数の第2突起状遮光部分の間隔よりも大きいことを特徴とする投影露光用フォトマスクパターン。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G03F 7/20 521 , H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 1/08 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 502 V , H01L 21/30 502 M , H01L 21/30 506 Z , H01L 21/30 526 A

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