特許

J-GLOBAL ID：200903055823896217

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

発明者： 阿出川 豊
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-320866
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131908
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
要約：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度、解像度、レジスト液の保存安定性、PCD、PED安定性の諸特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供することである。【解決手段】A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物としてN-ヒドロキシルイミドのスルホン酸エステル化合物、(B)メタ位に少なくともOH基を1個有するフェノール構造を含む繰り返し単位を含有し、分子量分布が1.0〜1.5の範囲にある、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)電子線又はX線の照射により、酸を発生する化合物としてN-ヒドロキシルイミドのスルホン酸エステル化合物、(B)メタ位に少なくともOH基を1個有するフェノール構造を含む繰り返し単位を含有し、分子量分布が1.0〜1.5の範囲にある、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び(C)酸の作用により(B)の樹脂と架橋を生じる架橋剤を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (11件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/13 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/375 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/32 ,  C08L 63/00 ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (11件)：

G03F 7/038 601 ,  C08K 5/13 ,  C08K 5/16 ,  C08K 5/375 ,  C08K 5/42 ,  C08L 25/18 ,  C08L 61/32 ,  C08L 63/00 Z ,  C08L101/06 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (54件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB56 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J002AA051 ,  4J002BC011 ,  4J002BC041 ,  4J002BC081 ,  4J002BC101 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BE041 ,  4J002BF011 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002BQ001 ,  4J002CC162 ,  4J002CC182 ,  4J002CC222 ,  4J002CC232 ,  4J002CC242 ,  4J002CD052 ,  4J002CD062 ,  4J002EJ067 ,  4J002EN008 ,  4J002ER028 ,  4J002EU028 ,  4J002EU048 ,  4J002EU078 ,  4J002EU088 ,  4J002EU118 ,  4J002EU128 ,  4J002EU138 ,  4J002EU148 ,  4J002EU238 ,  4J002EV077 ,  4J002EV246 ,  4J002FD090 ,  4J002FD147 ,  4J002FD156 ,  4J002FD310 ,  4J002GP03