特許

J-GLOBAL ID：200903055835704690

マスクデータ処理方法およびマスク描画装置

発明者： 植木 伸一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-057487
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079987
出願日： 2003年03月04日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】マスクデータのデータ量を効率的に削減できるマスクデータ処理方法と、関数記述により圧縮されたデータを取り込んで描画できるマスク描画装置を提供する。【解決手段】マスクに描画される複数の図形の形状および配置を、関数定義と関数呼び出しによって表し、データ処理を行うマスクデータ処理方法。そのような関数で記述されたデータを取り込んでパターンデータを生成するデータ処理機能部と、パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有するマスク描画装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

マスクに描画される複数の図形の形状および配置を、関数定義と関数呼び出しによって表し、データ処理を行う マスクデータ処理方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F1/08

FI (2件)：

H01L21/30 541S ,  G03F1/08 A

Fターム (8件)：

2H095BA01 ,  2H095BB01 ,  2H095BB07 ,  5F056AA22 ,  5F056CA05 ,  5F056CA17 ,  5F056CA22 ,  5F056FA05