特許
J-GLOBAL ID:200903055839525723
高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-060783
公開番号(公開出願番号):特開2002-258001
出願日: 2001年03月05日
公開日(公表日): 2002年09月11日
要約:
【要約】【課題】 長期間使用しても刺激に対する応答性が低下することを抑制するような、刺激応答の耐久性を有する高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子を提供することを目的とする。【解決手段】 刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲルと、該高分子ゲル内及び/又は該高分子ゲル外に位置する前記液体と、該液体と前記高分子ゲルとを含む領域を覆う隔離部材と、から構成される高分子ゲル組成物であって、更に、該高分子ゲル組成物の周囲を囲み、かつ、前記液体の蒸発を防止する蒸発防止部材が設けられることを特徴とする高分子ゲル組成物、及びその製造方法、並びに、前記高分子ゲル組成物を用いた光学素子。
請求項(抜粋):
刺激の付与により液体を吸収・放出して体積変化を生ずる高分子ゲルと、該高分子ゲル内及び/又は該高分子ゲル外に位置する前記液体と、該液体と前記高分子ゲルとを含む領域を覆う隔離部材と、から構成される高分子ゲル組成物であって、更に、該高分子ゲル組成物の周囲を囲み、かつ、前記液体の蒸発を防止する蒸発防止部材が設けられることを特徴とする高分子ゲル組成物。
IPC (5件):
G02B 1/04
, C08K 5/00
, C08L101/14
, G02B 1/10
, G02B 5/02
FI (5件):
G02B 1/04
, C08K 5/00
, C08L101/14
, G02B 5/02 B
, G02B 1/10 Z
Fターム (26件):
2H042BA02
, 2H042BA15
, 2H042BA20
, 2K009BB11
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009BB25
, 2K009BB28
, 2K009CC01
, 2K009CC14
, 2K009CC42
, 2K009DD01
, 2K009EE00
, 4J002BG011
, 4J002BG071
, 4J002BG131
, 4J002BH021
, 4J002BQ001
, 4J002DA036
, 4J002DA066
, 4J002DE136
, 4J002EE056
, 4J002EQ016
, 4J002EU006
, 4J002FD096
, 4J002GB00
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (1件)
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「シリコーンハンドブック」, 19900831, 初版, p.55-76
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