特許

J-GLOBAL ID：200903055844696420

処理装置

発明者： 山田 善章
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-215972
公開番号（公開出願番号）：特開平8-083745
出願日： 1994年09月09日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：

【要約】【目的】 低価格で、且つ一つのユニットで塗布、現像処理が可能な処理装置を提供する。【構成】 ウエハを真空チャック1で保持して内部に収納する塗布カップ2と、この塗布カップの一側に配設され所望の処理液が供給され且つ滴下可能な第1のノズル3と、この第1のノズル3をウエハの上方に搬送する第1の搬送手段6と、塗布カップ2の他側に配設されそれぞれ異なる種類のリンス液が供給される複数の第2のノズル7と、この第2のノズル7の内から必要に応じて1個を選択しウエハの上方に搬送する第2の搬送手段10とを備える。

請求項（抜粋）：

ウエハをチャックで保持して内部に収納する処理カップと、上記処理カップの一側に配設され所望の処理液が供給され且つ滴下可能な第1のノズルと、上記第1のノズルを上記ウエハの上方に搬送する第1の搬送手段と、上記処理カップの他側に配設されそれぞれ異なる種類のリンス液が供給される複数の第2のノズルと、上記第2のノズルの内から必要に応じて1個を選択し上記ウエハの上方に搬送する第2の搬送手段とを備えたことを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 569 C