特許

J-GLOBAL ID：200903055848763602

粘着性フォトレジスト組成物

発明者： 坂口 徳久 ,  村上 和夫 ,  柳田 泰夫
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-096497
公開番号（公開出願番号）：特開平5-297587
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：

【要約】【構成】 マスクパタ-ンを固着するに足る塗膜表面粘着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する粘着性フォトレジスト組成物であって、(1)アクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオリゴマ-と、(2)有機重合体結合体とを含有する粘着性フォトレジスト組成物。【効果】 本発明の組成物は、薄膜単層コ-ティングができ、かつ、その表面に金属マスク等を転写・固着し得る機能を有するフォトレジスト材料であり、ステッパ-を用いずに一括露光方式で高解像度のレジストパタ-ン画像を形成することができる。本発明の組成物によれば、大面積回路素子基板を簡便に生産性良く製造することができる。

請求項（抜粋）：

マスクパタ-ンを固着するに足る塗膜表面粘着性を有し、かつ、活性光線照射によって現像除去可能な非画像部と非粘着性の硬化画像部とを形成する粘着性フォトレジスト組成物であって、(1)アクリル又はメタクリル末端基含有アクリルオリゴマ-と(2)有機重合体結合体とを含有することを特徴とする粘着性フォトレジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/027 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027