ダイヤモンド状炭素薄膜形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069230
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256957
出願日： 1993年03月04日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【構成】平行平板型高周波プラズマCVD装置において、動作圧力が50Pa以上、供給電力が3W/cm2 以下、で高品質ダイヤモンド状炭素薄膜を得るために、電極間隔を9mm以下とし、成膜を行う。

請求項（抜粋）：

平行平板型高周波プラズマCVD装置において、基板を配置した高周波給電電極と平行かつ並行に対向する接地電極との電極間距離を9mm以下の容量結合とし、グロー放電の動作圧力を50Paから100Paの範囲内の任意の値に数値限定したことを特徴とするダイヤモンド状炭素薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 16/50 , C23C 16/26 , H05H 1/46

引用特許：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (4件)

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