特許
J-GLOBAL ID：200903055861600305
成膜装置および成膜方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
増田 達哉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-260487
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081548
出願日： 1999年09月14日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】多彩な膜組成・膜構成を得ることができ、所望の薄膜を短時間で効率的に製造でき、特に、傾斜屈折率薄膜を容易に形成することができる成膜装置および前記成膜装置を用いた成膜方法を提供することにある。【解決手段】成膜装置1は、チャンバ2と、基板3を保持する保持部4と、膜厚計5と、シャッタ6と、第1の材料供給源7と、第2の材料供給源8と、シャッタ手段11と、制御手段12とを有している。シャッタ手段11は、開口32が形成された遮蔽板18と、該遮蔽板18を回転する駆動系16とを有し、遮蔽板18の回転により開度が変化するものである。
請求項（抜粋）：
チャンバと、チャンバ内に配置された複数の材料供給源と、薄膜形成対象物を保持する保持部とを有し、気相成膜法により前記材料供給源から供給される膜材料により薄膜形成対象物に成膜する成膜装置であって、前記各材料供給源のうちの少なくとも1つの材料供給源に対して設置され、その開度が調整可能なシャッタ手段を備えたことを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/24 C
, G02B 1/10 Z
2K009AA03
, 2K009BB02
, 2K009BB14
, 2K009BB24
, 2K009CC03
, 2K009DD04
, 2K009DD09
, 2K009EE00
, 4K029CA01
, 4K029DA12
, 4K029DB14
, 4K029EA02
