特許

J-GLOBAL ID：200903055870737275

基板処理装置

発明者： 村岡 祐介 ,  宮城 雅宏
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-334540
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330040
出願日： 1998年11月25日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 乾燥処理の際に基板の表面にIPA蒸気が結露してしまう。【解決手段】 基板9を回転させる保持台121、基板9の上面に対向する雰囲気遮断板151、雰囲気遮断板151から窒素ガスとIPA蒸気との混合気である処理ガスを供給するガス供給部171とを有する基板処理装置100において、基板9の温度に相当する温度として雰囲気遮断板151の温度を測定する温度計154を設ける。そして、温度計154の測定値に基づいてガス供給部171において、処理ガス中のIPA蒸気の濃度を基板9の温度においてIPA蒸気が飽和蒸気圧となる濃度未満とする。これにより、基板9の表面におけるIPA蒸気の結露を防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板に付着した液を除去する基板処理装置であって、基板を保持する保持台と、前記保持台を回転させることにより保持される基板を回転させる回転駆動源と、前記保持台に保持される基板の一の主面に対向して配置される雰囲気遮断板と、前記一の主面に向けて有機溶剤蒸気を含む処理ガスを供給するガス供給手段と、を備え、前記ガス供給手段から供給される処理ガス中の有機溶剤蒸気の濃度が、保持される基板の温度において前記有機溶剤蒸気が飽和蒸気圧となる濃度を下回ることを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 3/10 ,  F26B 5/08

FI (4件)：

H01L 21/304 651 B ,  H01L 21/304 651 L ,  F26B 3/10 ,  F26B 5/08