特許

J-GLOBAL ID：200903055880428750

紫外線洗浄装置

発明者： 嶋田 清
出願人/特許権者： 島田理化工業株式会社
代理人 (1件)： 上島 淳一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-299019
公開番号（公開出願番号）：特開平9-120950
出願日： 1995年10月24日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】基板上の有機物の除去を均一に行うことができ、オゾン発生の際に新たなゴミの付着を防止することができ、熱板との接触による基板の表面の汚れを防止することができ、基板の表面の有機物を除去するスピードを速め、基板の表面からの有機物の除去にかかる時間を短縮することができる紫外線洗浄装置を提供する。【解決手段】紫外線およびオゾンの照射による酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、基板の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置において、基板10の下方に基板10を加熱するための遠赤外線ヒーター12を配置し、基板10の上方に基板10上に紫外線を照射する紫外線ランプ16を配置し、紫外線ランプ16の上方に紫外線ランプ16方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き出し管18を配置する。

請求項（抜粋）：

紫外線およびオゾンの照射による酸化エネルギーと光子エネルギーとを利用して、基板の表面の有機物を除去する紫外線洗浄装置において、基板の下方に前記基板を加熱するための加熱手段を配置し、前記基板の上方に前記基板上に紫外線を照射する紫外線照射手段を配置し、前記紫外線照射手段の上方に前記紫外線照射手段方向にオゾンを吹き出すオゾン吹き出し手段を配置したことを特徴とする紫外線洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/30 572 A ,  H01L 21/302 N