特許

J-GLOBAL ID：200903055887975315

ポリオレフィンの製造方法

発明者： 原 大治 ,  森 充博
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-032988
公開番号（公開出願番号）：特開平5-202122
出願日： 1992年01月24日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【構成】Mg及び、Ti、Zr、Hf、Vから選ばれる少なくとも一種、及びハロゲン、及び電子供与性化合物を含有する固体触媒成分、周期律表の第IA、IIA、IIB、IIIB、及びIVB族金属の有機金属化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種、一般式R1(R2)Si(OR3)2(R1;炭素数3以上の直鎖状炭化水素基、R2;炭素数1以上の直鎖状炭化水素基、R3;炭素数1〜5の炭化水素基)で表される酸素含有有機ケイ素化合物を用いるポリオレフィンの製造方法。【効果】粒子形状の良好で、かつ立体規則性、共重合性、分子量及び分子量分布が制御された重合体を高収率で得る。

請求項（抜粋）：

遷移金属化合物及び有機金属化合物からなる触媒の存在下、ポリオレフィンを製造するにあたって、触媒の成分(A)として、マグネシウム及び、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウムから選ばれた少なくとも一種、及びハロゲン、及び電子供与性化合物を含有する固体触媒成分、成分(B)として周期律表の第IA、IIA、IIB、IIIB、及びIVB族金属の有機金属化合物からなる群より選ばれた少なくとも一種、成分(C)として、一般式R1(R2)Si(OR3)2(R1;炭素数3以上の直鎖状炭化水素基、R2;炭素数1以上の直鎖状炭化水素基、R3;炭素数1〜5の炭化水素基)で表される酸素含有有機ケイ素化合物を用いるポリオレフィンの製造方法。

IPC (2件)：

C08F 10/00 ,  C08F 4/654 MFG