特許
J-GLOBAL ID：200903055888815036
ガス分析計における校正曲線の作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤本 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-213727
公開番号（公開出願番号）：特開平6-034637
出願日： 1992年07月18日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：
【要約】【目的】 従来の手法に比べてより効率よく、より正確に校正曲線を得る方法を提供すること。【構成】 ガス分析計3に濃度が異なる校正用ガスDGを供給して、そのときのガス濃度に対応して得られる4以上の測定値を基にして最小二乗法を用いて、校正曲線を4次以下の多項式f(x)で近似し、この近似式f(x)の一次微分f’(x)を、濃度ゼロ〜フルスケールの1.05倍の範囲内においてチェックして、f’(x)≧0のとき、フルスケール誤差およびリーディングポイント誤差をそれぞれ求め、これらが共に特定の規格で定められている許容範囲にあるか否かを判定するようにした。
請求項（抜粋）：
?@ ガス分析計に濃度が異なる校正用ガスを供給して、そのときのガス濃度に対応する出力を4以上採取する、?A 前記4以上の測定値を基にして最小二乗法を用いて、校正曲線を4次以下の多項式f(x)で近似する(xは濃度を表す分析計出力)、?B 前記近似式f(x)の一次微分f’(x)を、濃度ゼロ〜フルスケールの1.05倍の範囲内においてチェックする、?C f’(x)≧0のとき、フルスケール誤差およびリーディングポイント誤差をそれぞれ求め、これらが共に特定の規格で定められている許容範囲にあるか否かを判定する、と云う手順からなることを特徴とするガス分析計における校正曲線の作成方法。
IPC (2件)：
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