特許
J-GLOBAL ID:200903055893346621

多層配線基板

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-292766
公開番号(公開出願番号):特開平11-126978
出願日: 1997年10月24日
公開日(公表日): 1999年05月11日
要約:
【要約】【課題】半導体素子、コンデンサ素子、抵抗素子などの電気素子を搭載し、小型化と、電気素子の実装密度を高めるとともに、配線回路層の高密度化が可能な多層配線基板を提供する。【解決手段】少なくとも熱硬化性樹脂を含む複数の絶縁層を積層してなる絶縁基板50と、絶縁基板50の表面および内部に形成された複数の配線回路層51と、望ましくは、金属粉末の充填によって形成され、配線回路層51間を接続するためのバイアホール導体52を具備するとともに、絶縁基板50内部に空隙部53が形成され、空隙部53内に電気素子54を実装収納してなる配線コア基板55の表面に、ビルドアップ法に基づき、感光性樹脂を含有する絶縁層56と、薄膜形成法により形成された配線回路層58とを順次積層してなる多層配線層60を形成する。
請求項(抜粋):
少なくとも熱硬化性樹脂を含む複数の絶縁層を積層してなる絶縁基板と、該絶縁基板の表面および内部に形成された複数の配線回路層と、前記配線回路層間を接続するためのバイアホール導体を具備するとともに、前記絶縁基板内部に空隙部が形成され、該空隙部内に電気素子を実装収納してなる配線コア基板の表面に、感光性樹脂を含有する絶縁層と、配線回路層とを順次積層してなる多層配線層を形成し、且つ前記電気素子と前記多層配線層における配線回路層とを電気的に接続されてなることを特徴とする多層配線基板。
IPC (2件):
H05K 3/46 ,  H01L 23/12
FI (4件):
H05K 3/46 Q ,  H05K 3/46 B ,  H05K 3/46 N ,  H01L 23/12 N
引用特許:
審査官引用 (3件)

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