特許

J-GLOBAL ID：200903055900160822

液体洗浄剤組成物

発明者： 小西 祥博 ,  吉田 隆治 ,  岡本 好正 ,  西澤 伸広
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (4件)： 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  持田 信二 ,  義経 和昌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-209766
公開番号（公開出願番号）：特開2007-023211
出願日： 2005年07月20日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

【課題】 陰イオン界面活性剤とアミンオキシド化合物を併用した系であって、貯蔵安定性、特に低温での貯蔵安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。【解決手段】 (a)特定の陰イオン界面活性剤、(b)特定のアミンオキシド型界面活性剤、一般式(1)中のzが1の化合物(c1)、及び下記一般式(1)中のzが2〜6の化合物(c2)を、それぞれ特定比率で含有し、25°CにおけるpHが3以上7未満の液体洗浄剤組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(a)分子中に炭素数10〜16の炭化水素基と、1つ以上のスルホン酸塩基又は硫酸エステル塩基を有する陰イオン界面活性剤を5〜50質量%、(b)炭素数10〜16の炭化水素基と、炭素数1〜3のアルキル基又は炭素数1〜3のヒドロキシアルキル基とを有するアミンオキシド型界面活性剤を0.1〜15質量%、下記一般式(1)中のzが1の化合物(c1)、及び下記一般式(1)中のzが2〜6の化合物(c2)を含有し、化合物(c1)と、化合物(c1)と化合物(c2)の合計との質量比[c1]/([c1]+[c2])が0.1〜0.8であり、25°CにおけるpHが3以上7未満の液体洗浄剤組成物。 Ph-(CH2)x(OCyH2y)z-OH (1) 〔式中Phは、炭素数1〜3のアルキル基が1〜3個置換していてもよいフェニル基であり、xは0または1の数であり、yは2又は3の数であり、zは1又は2〜6の数である。〕

IPC (6件)：

C11D 17/08 ,  C11D 1/14 ,  C11D 1/75 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/33 ,  C11D 3/43

FI (6件)：

C11D17/08 ,  C11D1/14 ,  C11D1/75 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D3/43

Fターム (13件)：

4H003AB07 ,  4H003AB31 ,  4H003AC05 ,  4H003AC16 ,  4H003AC17 ,  4H003BA12 ,  4H003DA05 ,  4H003DA17 ,  4H003EB08 ,  4H003EB13 ,  4H003EB34 ,  4H003ED29 ,  4H003FA28

引用特許：

出願人引用 (4件)

• クリーニング組成物
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平8-500890   出願人：ザプロクターエンドギャンブルカンパニー
• 液体洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-237068   出願人：花王株式会社
• 硬表面の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-346964   出願人：ライオン株式会社
• 液体洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-059771   出願人：花王株式会社

審査官引用 (2件)

• 液体洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-237068   出願人：花王株式会社
• 硬質表面洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-255945   出願人：花王株式会社