特許
J-GLOBAL ID:200903055908843872

新規ポリマーおよび該ポリマーを含むフォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 千田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-045545
公開番号(公開出願番号):特開2000-239538
出願日: 2000年02月23日
公開日(公表日): 2000年09月05日
要約:
【要約】【課題】 新規ポリマーおよび該ポリマーを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 光活性成分、および単一の光酸誘導性デプロテクション化反応で複数の陰イオンまたは酸性基を生じさせることができる光酸レイビル単位を含むポリマーを含む樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物が開示される。
請求項(抜粋):
光活性成分、および単一の光酸誘導性デプロテクション反応で複数の陰イオンまたは酸性基を生じさせることができる光酸レイビル単位を含むポリマーを含む樹脂バインダーを含むフォトレジスト組成物。
IPC (2件):
C08L101/06 ,  G03F 7/039 601
FI (2件):
C08L101/06 ,  G03F 7/039 601

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