特許
J-GLOBAL ID：200903055908873585
X線マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-183740
公開番号（公開出願番号）：特開平6-029193
出願日： 1992年07月10日
公開日（公表日）： 1994年02月04日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、高剛性で応力の影響による微細パターンの変位がなく、かつ電子ビームによるパターンの描画・回路検査時やX線リソグラフィー時にも、局所的なチャージアップによるパターン像の歪み・鮮明度の低下が生じないX線マスクを提供することを目的とする。【構成】 本発明のX線マスクは、導電性不純物を含有するダイヤモンド微結晶を含むX線透過性のメンブレンと、このメンブレンの上に所定のパターンに沿って設けられるX線吸収体を備える。
請求項（抜粋）：
導電性不純物を含有するダイヤモンド微結晶を含むX線透過性のメンブレンと、このメンブレンの上に所定のパターンに沿って設けられるX線吸収体を備えるX線マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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