特許
J-GLOBAL ID:200903055927649939
塩基性ガス除去用酸化チタン光触媒
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
赤岡 迪夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-359859
公開番号(公開出願番号):特開2002-159865
出願日: 2000年11月27日
公開日(公表日): 2002年06月04日
要約:
【要約】【課題】 酸化チタン光触媒の塩基性ガスに対する除去性能を高める。【解決手段】 光触媒活性を有する酸化チタン粒子をコアとし、これをシリカ水和物で被覆する。シリカ水和物の被覆量は選択的に吸着した塩基性ガスがコアの活性サイトへ効率的に供給され、光触媒全体の塩基性ガス除去能力が高められるように調節される。
請求項(抜粋):
光触媒活性を有する酸化チタン粒子よりなるコアと、該コアを取り巻くシリカ水和物の被覆層を有し、該被覆層は塩基性ガスを選択的に吸着し、これを酸化チタンコアの活性サイトへ効率的に供給することによって光触媒全体の塩基性ガス除去能力を高めるように機能することを特徴とする塩基性ガス除去用酸化チタン光触媒。
IPC (5件):
B01J 35/02 ZAB
, A61L 9/00
, A61L 9/18
, B01D 53/86
, B01J 21/08
FI (5件):
B01J 35/02 ZAB J
, A61L 9/00 C
, A61L 9/18
, B01J 21/08 A
, B01D 53/36 J
Fターム (34件):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080CC08
, 4C080CC09
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL03
, 4C080MM02
, 4C080NN06
, 4C080QQ20
, 4D048AA17
, 4D048BA06X
, 4D048BA06Y
, 4D048BA07X
, 4D048BA07Y
, 4D048BA41X
, 4D048BA41Y
, 4D048BB17
, 4D048BC07
, 4D048EA01
, 4D048EA04
, 4G069AA02
, 4G069AA03
, 4G069AA08
, 4G069BA02A
, 4G069BA02B
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA11
, 4G069EC03X
, 4G069EC03Y
, 4G069EE01
引用特許:
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