特許

J-GLOBAL ID：200903055936938153

超純水中の水酸化物イオンによる加工方法

発明者： 森 勇藏 ,  石川 俊夫
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 柳野 隆生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-347598
公開番号（公開出願番号）：特開2000-167714
出願日： 1998年12月07日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：

【要約】【課題】 被加工物の加工面上での水酸化物イオン密度を更に増加させるとともに、水酸化物イオンと結合した被加工物の原子を速やかに加工面から除去することによって加工速度を上げ、超純水中の水酸化物イオンを用いて被加工物の加工面に不純物を残さない清浄な加工が行える、真に理想的且つ現実的な超純水中の水酸化物イオンによる加工方法を提供する。【解決手段】 超純水のみからなる加工槽内に被加工物2と高圧力ノズル1とを所定の間隔を置いて配設し、該被加工物の加工面に対面する高圧力ノズルの先端周囲に、水酸化物イオンを増加させるイオン交換材料4又は触媒材料を設け、高圧力ノズルを陰極、被加工物を陽極として電圧を印加し、被加工物の表面近傍に高圧力ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させるとともに、超純水から生成された水酸化物イオンを被加工物表面に供給し、水酸化物イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって被加工物の除去加工若しくは酸化被膜形成加工をする。

請求項（抜粋）：

超純水のみからなる加工槽内に被加工物と高圧力ノズルとを所定の間隔を置いて配設し、該被加工物の加工面に対面する高圧力ノズルの先端周囲に、水酸化物イオンを増加させるイオン交換材料又は触媒材料を設け、前記高圧力ノズルを陰極、被加工物を陽極として電圧を印加し、被加工物の表面近傍に高圧力ノズルから噴射した超純水の高速剪断流を発生させるとともに、超純水から生成された水酸化物イオンを被加工物表面に供給し、水酸化物イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって被加工物の除去加工若しくは酸化被膜形成加工をすることを特徴とする超純水中の水酸化物イオンによる加工方法。

Fターム (6件)：

3C059AA02 ,  3C059AB01 ,  3C059EA02 ,  3C059EB08 ,  3C059ED01 ,  3C059GC00

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 放電加工装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-247652   出願人：三菱電機株式会社
• 微細穴放電加工方法とその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-012736   出願人：松下電器産業株式会社
• 放電加工用電極、放電加工装置、および放電加工用電極の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-287113   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 特開昭61-274819