特許
J-GLOBAL ID：200903055951625013
不純金属成分の低減された感電離放射線性樹脂組成物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
内田 亘彦 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-258823
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074073
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：
【要約】【構成】 本発明の感電離放射線性樹脂組成物の製造方法は、感電離放射線性樹脂組成物またはその組成成分溶液を、粘土層間化合物、活性炭、グラファイト、シリカゲル、アルミナゲル、アルミノ-シリカゲルより選ばれる少なくとも1つの吸着剤を用いて精製することを特徴とする。【効果】 感電離放射線性樹脂組成物における不純金属成分を効果的かつ簡便に低減させることができるので、本発明により製造されるレジストは、ICの半導体デバイス製造や磁気バブルメモリー素子製造等、ドライエッチングまたはアッシング工程を有するフォトファブリケーシヨン工程での使用に適し、高い解像力、露光マスクの形状を正確に写しとる高いパターン形状の再現精度を有し、更に高生産性にすぐれ、高感度のものである。
請求項（抜粋）：
感電離放射線性樹脂組成物またはその組成成分溶液を、粘土層間化合物、活性炭、グラファイト、シリカゲル、アルミナゲル、アルミノ-シリカゲルより選ばれる少なくとも1つの吸着剤を用いて精製することを特徴とする不純金属成分の低減された感電離放射線性樹脂組成物の製造方法。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, B01D 15/00
, C08F 6/00 MFK
, C08G 8/10 NBJ
, C08L101/00 LTB
, G03F 7/039 501
