特許
J-GLOBAL ID:200903055958034932

誘導結合モードと静電結合モードとを併用する高密度プラズマCVDリアクタ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-106138
公開番号(公開出願番号):特開平8-092748
出願日: 1995年04月28日
公開日(公表日): 1996年04月09日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 プラズマリアクタの内部を均一に浄化する。【構成】 真空チャンバ内に主として静電結合プラズマを発生させるために、ガス注入口からチャンバにエッチングガスを導入しながらチャンバ内を真空とし、コイルアンテナにRFエネルギーを必ずしも印加していない間にチャンバ内のシーリング電極にRFエネルギーを印加することによりプラズマリアクタを浄化する方法として具体化される。本発明の別の態様においては、リアクタを誘導結合モードで操作しようとするときには常に、シーリング電極を接地させながら、リアクタのコイルアンテナ26にPF電力を印加し、リアクタを静電結合モードで操作しようとするときには常に、シーリング電極にRF電力を印加し、リアクタを浄化しようとするときには常に、真空チェンバにエッチングガスを導入しながら、シーリング電極とアンテナ26とにRF電力を印加する。
請求項(抜粋):
真空チャンバ;前記真空チャンバの底部近くの、ウェーハを支持可能なウェーハ保持用ペデスタル;ガス注入口と真空ポンプ;前記チャンバの頂部の、一般的に平形の導電性シーリング電極;前記シーリング電極と前記ウェーハ保持用ペデスタルとの間の空間の周囲に隣接して配置されたコイルアンテナ;及び、前記コイルアンテナ、前記シーリング電極、前記ウェーハペデスタルの各々を、(a)各RF電源、(b)グランド、(c)フロート電位のうちの少なくとも1つに個々に接続するためのスイッチを備えるプラズマリアクタの操作方法において、前記ガス注入口から前記チャンバ内にエッチングガスを導入しながら前記真空ポンプで前記チャンバ内を真空を形成する工程;前記シーリング電極にRFエネルギーを印加するために前記スイッチを操作する工程;を含む方法。
IPC (6件):
C23C 16/50 ,  C23C 16/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

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