特許
J-GLOBAL ID:200903055968224535
表示装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鹿嶋 英實
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-375277
公開番号(公開出願番号):特開2007-179813
出願日: 2005年12月27日
公開日(公表日): 2007年07月12日
要約:
【課題】パネル基板を平坦化する平坦化膜にクラックや層間剥離が生じる現象を抑制して、表示パネルの表示品位や歩留まりの向上を図ることができる表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】画素回路DCを構成するトランジスタTr11〜13やキャパシタCs、各種配線層が形成された絶縁性基板11上に、被覆形成された保護絶縁膜13及び平坦化膜14の所定領域に、溝部DITを設けた構成を有している。この溝部DITは、例えば表示画素PIXの画素形成領域Rpxの縁辺領域(すなわち、隣接する表示画素PIXとの境界領域近傍)であって、データラインLd及び選択走査ラインLs近傍に、その延在方向に沿って伸延するように設けられている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
絶縁性の基板上に絶縁膜を介して、発光素子を有する複数の表示画素が形成された表示装置において、
前記表示画素間に、当該絶縁膜を厚さ方向に除去した溝部を備えていることを特徴とする表示装置。
IPC (3件):
H05B 33/22
, H05B 33/10
, H01L 51/50
FI (3件):
H05B33/22 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
Fターム (6件):
3K007AB14
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007EA00
, 3K007FA00
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (2件)
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表示装置及びその作製方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-175304
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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表示装置、及び電子機器
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-364738
出願人:セイコーエプソン株式会社
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