特許
J-GLOBAL ID：200903055982446990
フローセンサ
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
佐竹 良明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-091599
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264565
出願日： 1992年03月17日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：
【要約】【目的】 ヒータの上流と下流とで大きな温度差を得る。【構成】 n形シリコン基板1の表面に高濃度ホウ素添加単結晶シリコン層2を形成する。この基板の両面にSiO2膜4、5を熱酸化の手法で形成し、裏面のSiO2膜5に窓をあける。こうして基板1を異方性エッチングすると、n形シリコン基板1に空洞15ができ、高濃度ホウ素添加単結晶シリコン層2は異方性エッチャントに侵されず、空洞15の上にダイヤフラム状に残る。これを薄膜ヒータ6として利用する。薄膜ヒータ6には気体の流れに沿って電流が流れるように、電極7,7は上流側と下流側に設ける。薄膜ヒータ上に気体の流れに沿って、上流側、中央部、下流側にそれぞれ温度センサ9a,b,cを設ける。
請求項（抜粋）：
気体の流れにさらされる薄膜ヒータの上流側と下流側の温度をそれぞれ温度センサで測定し、それらの温度差から気体の流速を検出するようにしたフローセンサにおいて、該薄膜ヒータが正の抵抗温度係数を有しており、該薄膜ヒータが気体の流れに沿った方向に電流が流れるように配置されていることを特徴とするフローセンサ。
IPC (2件)：
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