特許

J-GLOBAL ID：200903055989979625

感光性組成物

発明者： 矢作 公
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-093594
公開番号（公開出願番号）：特開2003-295455
出願日： 2002年03月29日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】ドライエッチング耐性に優れ、パターン形成する際にクラックが入りにくいレジスト膜を形成し得るネガ型感光性組成物を提供する。【解決手段】下記(A)〜(D)を含有してなることを特徴とするネガ型感光性組成物。(A)オキシラニル基またはオキセタニル基を含むポリオルガノシロキサン樹脂。(B)オキシラニル基またはオキセタニル基を含み、かつカルボキシアルキル基またはヒドロキシフェニル基を含むアルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂。(C)水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂。(D)電磁線または熱により酸を発生する化合物。

請求項（抜粋）：

下記(A)〜(D)を含有してなることを特徴とするネガ型感光性組成物。(A)下記式(1)で示される官能基および下記式(2)で示される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を含むポリオルガノシロキサン樹脂。(B)下記式(1)で示される官能基および下記式(2)で示される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を含み、かつ下記式(3)で示される官能基および下記式(4)で示される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を含むアルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂。(C)水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂。(D)電磁線または熱により酸を発生する化合物。・・・(1)(式中、Rは二価の有機基を表し、R1〜R3は、それぞれ独立に、水素原子を表すか、または炭素数1〜20の一価の有機基を表す。)・・・(2)(式中、R、R1〜R3は、前記と同じ意味を表し、R4、R5は、それぞれ独立に、水素原子を表すか、または炭素数1〜20の一価の有機基を表す。)・・・(3)(式中、Rは前記と同じ意味を表す。)・・・(4)(式中、Rは前記と同じ意味を表し、R6〜R9は、それぞれ独立に、水素原子を表すか、水酸基または炭素数1〜20の一価の有機基を表す。)

IPC (3件)：

G03F 7/075 511 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/26 511

FI (3件)：

G03F 7/075 511 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/26 511

Fターム (25件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA13 ,  2H025AB14 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BD55 ,  2H025CA00 ,  2H025CA48 ,  2H025DA13 ,  2H025FA35 ,  2H096AA28 ,  2H096AA30 ,  2H096BA06 ,  2H096HA07 ,  2H096KA05 ,  4J031CA06 ,  4J031CA12 ,  4J031CA15 ,  4J031CA28