レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法並びにレジスト剤用架橋剤

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：平井順二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-195038
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071363
出願日： 1998年06月25日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 220nm以下の遠紫外光、特にArFエキシマレーザ光等に対し高い透過性を有し、エッチング耐性等に優れたレジスト膜が得られる新規なレジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法、並びにArFネガ型レジスト剤用の新規な架橋剤の提供。【解決手段】脂肪族系の親水性基を含有するアルカリ可溶性ポリマーと、下記一般式[1],[2]又は[3]で示される化合物と、露光により酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤とを含んで成るレジスト組成物。(式中、R1〜R3は-O-,-CO-,-COO-及び/又は-OCO-を有していても良い順に二価、三価、四価の脂肪族炭化水素基を、A1〜A4はオキシラン環を含有するアルキル基を、T1〜T4は-O-,-COO-又は-OCO-を表す。)

請求項（抜粋）：

脂肪族系のアルカリ可溶性ポリマーと、下記一般式[1],[2]又は[3]で示される化合物と、露光により酸を発生する感光性化合物と、これ等を溶解可能な溶剤とを含んで成るレジスト組成物。【化1】(式中、R1は-O-,-CO-,-COO-及び/又は-OCO-を有していても良い二価の脂肪族炭化水素基を表し、A1及びA2は夫々独立して、オキシラン環を含有するアルキル基を表し、T1及びT2は夫々独立して、-O-,-COO-又は-OCO-を表す。)【化2】(式中、R2は-O-,-CO-,-COO-及び/又は-OCO-を有していても良い三価の脂肪族炭化水素基を表し、A1〜A3は夫々独立して、オキシラン環を含有するアルキル基を表し、T1〜T3は夫々独立して、-O-,-COO-又は-OCO-を表す。)【化3】(式中、R3は-O-,-CO-,-COO-及び/又は-OCO-を有していても良い四価の脂肪族炭化水素基を表し、A1〜A4は夫々独立して、オキシラン環を含有するアルキル基を表し、T1〜T4は夫々独立して、-O-,-COO-又は-OCO-を表す。)

IPC (8件)：

C07D303/02 , C09D 5/00 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/027 502 , G03F 7/038 601 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027

FI (10件)：

C07D303/02 , C09D 5/00 Z , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/027 502 , G03F 7/038 601 , G03F 7/38 511 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 568 , H01L 21/30 569 F

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開昭63-132928
体積ホログラム記録用感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-067021 出願人：日本ペイント株式会社
所望でない早期重合に対する液状放射線-硬化性組成物の安定化
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-084666 出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト

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