特許

J-GLOBAL ID：200903056008865079

疎水性エアロゲルの製造方法

発明者： 横川 弘 ,  横山 勝 ,  高濱 孝一 ,  上垣百合子
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-255085
公開番号（公開出願番号）：特開平5-279011
出願日： 1992年09月24日
公開日（公表日）： 1993年10月26日
要約：

【要約】【目的】 水分等を吸着しにくく、経時的な劣化の少ない、光透過性を有する多孔体を得ることができる疎水性エアロゲルの製造方法を提供する。【構成】 骨格が(SiO2)m (mは正の整数)で、かつ、シラノール基を有するポリマーを、前記シラノール基に対して反応可能な官能基と疎水基を併せ持つ疎水化処理剤と反応させて疎水化処理することにより得られた変性ポリマーのゲルを超臨界乾燥させて疎水性エアロゲルを得るようにする。

請求項（抜粋）：

骨格が(SiO2)m (mは正の整数)で、かつ、シラノール基を有するポリマーを、前記シラノール基に対して反応可能な官能基と疎水基を併せ持つ疎水化処理剤と反応させて疎水化処理することにより得られた変性ポリマーのゲルを超臨界乾燥させて疎水性エアロゲルを得るようにする疎水性エアロゲルの製造方法。