特許

J-GLOBAL ID：200903056013699942

低濃度有機性廃水の処理装置

発明者： 阿部 嗣 ,  小島 泉里
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212982
公開番号（公開出願番号）：特開平7-124594
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1995年05月16日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 イニシャルコスト、ランニングコストが安く、広いスペースを必要とせず、装置管理が容易でありながら安定した運転が可能な低濃度有機性廃水の処理装置を提供する。【構成】 低濃度有機廃水を超純水に再生する低濃度有機性廃水の処理装置であって、0.5〜3ppmのTOC濃度の低濃度有機廃水を60〜200ppbの低濃度有機性廃水にする逆浸透膜装置1,2と真空度が35Torr以下の下で被処理水の体積を基準にして0.001〜1.0の体積流量比の不活性ガスが塔内に送入される真空脱気塔3からなる第1の処理系と、184.9nmの紫外線を照射する低圧紫外線照射装置4a,4bとイオン交換装置5a,5bとを順に配置した組を少なくとも1組有する第2の処理系とを流路に沿って配設してなる低濃度有機性廃水の処理装置。

請求項（抜粋）：

0.5〜3ppmのTOC濃度の低濃度有機廃水をTOC濃度が1ppb以下の超純水に再生する低濃度有機性廃水の処理装置であって、0.5〜3ppmのTOC濃度の低濃度有機廃水を60〜200ppbの低濃度有機性廃水にする逆浸透膜装置と真空度が35Torr以下の下で被処理水の体積を基準にして0.001〜1.0の体積流量比の不活性ガスが塔内に送入される真空脱気塔からなる第1の処理系と、184.9nmの紫外線を照射する低圧紫外線照射装置とイオン交換装置とを順に配置した組を少なくとも1組有する第2の処理系とを流路に沿って順に配設してなることを特徴とする低濃度有機性廃水の処理装置。

IPC (12件)：

C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 ZAB ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504 ,  B01D 19/00 101 ,  C02F 1/20 ZAB ,  C02F 1/32 ZAB ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/42 ZAB ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/44 ZAB