特許

J-GLOBAL ID：200903056015507366

ヒ素含有水の処理方法

発明者： 森田 博也
出願人/特許権者： 日鉄鉱業株式会社
代理人 (1件)： 森田 憲一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-084875
公開番号（公開出願番号）：特開2004-290777
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】廃棄する沈澱物の量を減少させて、ヒ素の環境基準値(0.01ppm)の達成が可能な、ヒ素含有水の処理方法を提供する。【解決手段】ヒ素含有水の処理方法は、ヒ素含有被処理水に、pH3〜6の条件下でポリ硫酸第二鉄を添加する。また、ポリ硫酸第二鉄の添加によって生成する沈澱物と上澄み液とを分離した後、その上澄み液を、空気、酸素ガス又は過酸化水素で酸化処理することもでき、更に、その酸化処理によって生成する沈澱物と上澄み液とを分離した後、その上澄み液を濾過処理することもできる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

ヒ素含有被処理水に、pH3〜6の条件下でポリ硫酸第二鉄を添加することを特徴とする、ヒ素含有水の処理方法。

IPC (5件)：

C02F1/62 ,  B01D21/01 ,  C02F1/52 ,  C02F1/72 ,  C02F1/74

FI (5件)：

C02F1/62 A ,  B01D21/01 102 ,  C02F1/52 K ,  C02F1/72 Z ,  C02F1/74 Z

Fターム (31件)：

4D015BA19 ,  4D015BB05 ,  4D015CA20 ,  4D015DA16 ,  4D015DC02 ,  4D015DC04 ,  4D015EA13 ,  4D015EA32 ,  4D015FA15 ,  4D015FA24 ,  4D015FA28 ,  4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038AB79 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB18 ,  4D050AA02 ,  4D050AA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AB44 ,  4D050BB01 ,  4D050BB06 ,  4D050BB07 ,  4D050BB09 ,  4D050BB13 ,  4D050BB14 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15 ,  4D050CA16