特許

J-GLOBAL ID：200903056018020581

イオン出射ユニット、微細加工装置

発明者： 田伏 一彦 ,  渡辺 正夫
出願人/特許権者： 株式会社アドバンテスト
代理人 (1件)： 金田 暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-001775
公開番号（公開出願番号）：特開2001-195995
出願日： 2000年01月07日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 陽イオンをビーム状に安定に出射するユニットを簡単な構造で実現する。【解決手段】 針状部材201の先端に液体の分子種が供給され、針状部材201と引出電極204と加速電極206に電圧が相互に相違する負極の電力が供給されるので、針状部材201の先端の分子種から発生する陽イオンが引き出されて加速される。針状部材201の先端以外の部分と引出電極204とは環状の第一絶縁部材203で絶縁されており、引出電極204と加速電極206とは環状の第二絶縁部材205で絶縁されているので、針状部材201と引出電極204と加速電極206とに供給される電圧が相互に相違しても短絡や放電が発生しない。

請求項（抜粋）：

導電性の先鋭な針状部材と、この針状部材の先端を包囲する環状の引出電極と、この引出電極と前記針状部材の先端以外の部分とを絶縁する環状の第一絶縁部材と、前記引出電極より前記針状部材の先端方向に位置する環状の加速電極と、この加速電極と前記引出電極とを絶縁する環状の第二絶縁部材と、を具備しているイオン出射ユニット。

IPC (7件)：

H01J 27/26 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/31 ,  H05K 3/00 ,  B23K101:42

FI (7件)：

H01J 27/26 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 A ,  H01J 37/08 ,  H01J 37/31 ,  H05K 3/00 M ,  B23K101:42

Fターム (4件)：

4E066BA13 ,  5C030DF01 ,  5C030DG07 ,  5C030DG09

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体記録カセット並びに該半導体記録カセットを用いた記録方法及び再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-029731   出願人：シャープ株式会社