特許
J-GLOBAL ID：200903056022887530
X線リソグラフィ用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-070456
公開番号（公開出願番号）：特開平9-260258
出願日： 1996年03月26日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】 X線リソグラフィにおいて、そのレジスト深さに分布を有するレジストパターンを従来よりも容易に製造することができるX線リソグラフィ用マスクを提供する。【解決手段】 X線リソグラフィ用マスクは、支持枠12と、支持枠12上に設けられたX線が非常に透過しやすいX線透過膜13と、X線透過膜13上に設けられたX線吸収体14を含む。X線吸収体14は、X線11の照射方向に垂直な面において形成すべきレジスト材料16の所定のパターンに応じたパターンを有するとともに、X線11の照射方向に平行な方向においてもその厚みについて所定の分布を有する。この厚みの分布により、レジストに対するX線露光深さが制御される。
請求項（抜粋）：
X線透過部と前記X線透過部に保持されるX線吸収体とを備え、X線リソグラフィにおいてレジスト材料に所定のパターンを転写するマスクであって、X線照射の方向に垂直な面において前記所定のパターンに応じたパターンを有する前記X線吸収体が、前記X線照射の方向に平行な方向においてもその厚みについて所定の分布を有しており、前記厚みの分布に応じて、前記レジスト材料へのX線露光量およびX線露光深さに分布を生じさせることを特徴とする、X線リソグラフィ用マスク。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/16
, G21K 5/02
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
, G21K 5/02 X
出願人引用 (3件)
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特開平2-032524
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特開昭59-172723
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特開昭63-018351
審査官引用 (9件)
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