特許
J-GLOBAL ID：200903056034524450
電解槽
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷 照一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-229452
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075947
出願日： 1995年09月06日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：
【要約】【課題】 蛇行通路を有しながら各電極板の通電可能面積(有効通電面積)を十分に確保すること。【解決手段】 隔膜と各電極板40間に略水平に延びる仕切50(53,55)を設けて、仕切50と前記隔膜及び各電極板40とによって両端が開放しかつ通路面積が略等しい複数の反応通路P1,P2,P3を形成し、また各電極板40の側方に反応通路P1,P2,P3の各端部を下端から交互に接続する接続通路Pa,Pbを設けて、反応通路P1,P2,P3と接続通路Pa,Pbによって蛇行通路Pを形成し、この蛇行通路Pの一端となる下方部位の各電極板40の側方に各流入口11aが連通する流入室Raを形成し、また蛇行通路Pの他端となる上方部位の各電極板40の側方に流出口11bが連通する流出室Rbを形成した。
請求項（抜粋）：
下方に一対の流入口を有し上方に一対の流出口を有する槽本体と、この槽本体の内部を前記流入口と前記流出口が開口する一対の反応室に二分する隔膜と、前記各反応室にそれぞれ配設されて前記隔膜を挟んで対向し前記槽本体を通して通電される一対の電極板を備えて、前記両電極板間に電流を流すことにより前記各流入口から前記両電極板間を通して前記各流出口に流れる被処理水を電解処理するようにした電解槽において、前記各反応室の前記隔膜と前記各電極板間に略水平に延びる仕切を設けて、同仕切と前記隔膜及び前記各電極板とによって両端が開放しかつ通路面積が略等しい複数の反応通路を形成し、また前記各電極板の側方に前記複数の反応通路の各端部を下端から交互に接続する接続通路を設けて、前記複数の反応通路と前記接続通路によって蛇行通路を形成し、この蛇行通路の一端となる下方部位の前記各電極板の側方に前記各流入口が連通する流入室を形成し、また前記蛇行通路の他端となる上方部位の前記各電極板の側方に前記流出口が連通する流出室を形成したことを特徴とする電解槽。
IPC (2件)：
C02F 1/46
, C25B 9/00 301
C02F 1/46 A
, C25B 9/00 301
