特許

J-GLOBAL ID：200903056035771361

酸化装置

発明者： 木村 秀樹
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-317736
公開番号（公開出願番号）：特開平10-163186
出願日： 1996年11月28日
公開日（公表日）： 1998年06月19日
要約：

【要約】【課題】 安全性を確保しつつ乾燥した酸素ガスが酸化炉に流れることを抑制し、被処理物の被処理面を酸化処理して良好な膜質の酸化膜を形成する。【解決手段】 酸化装置10は、被処理物となる被処理ウエハ50の被処理面を酸化処理するための酸化炉11の外部に、水素ガスと酸素ガスとを燃焼反応させるための外部燃焼室12が設けられている。また酸化炉11と外部燃焼室12とが接続管13を介して接続されており、外部燃焼室12に水素ガス用供給管14および酸素ガス用供給管15が接続されている。そして接続管13にこの接続管13との接続部分18aを負圧にする負圧源であるアスピレータ管18が接続され、アスピレータ管18に上記接続部分18aの負圧状態を制御する制御弁であるガスバルブV6 が設けられているものである。

請求項（抜粋）：

被処理物の被処理面を酸化処理するための酸化炉と、水素ガスと酸素ガスとを燃焼反応させるためのもので前記酸化炉の外部に設けられた外部燃焼室と、該外部燃焼室に接続された水素ガス用供給管および酸素ガス用供給管と、前記酸化炉と前記外部燃焼室とを接続しかつ連通する接続管とを備えた酸化装置において、前記接続管に接続されたもので該接続管との接続部分を負圧にする負圧源と、該負圧源に設けられたもので該接続部分の負圧状態を制御する制御弁とを備えていることを特徴とする酸化装置。