特許
J-GLOBAL ID：200903056057471450
イオン注入装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-328271
公開番号（公開出願番号）：特開平9-147789
出願日： 1995年11月21日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：
【要約】【課題】 ファラデーカップ内のイオンがサプレッサ電極の穴を通り抜けて上流側へ漏れ出すのを抑制する。【解決手段】 ファラデーカップ8の入口部に、当該ファラデーカップ8に電気的に接続されていてそれと同電位の入口部電極30を設けた。この入口部電極30は、サプレッサ電極10の穴11に対応する位置に当該穴11とほぼ同寸法の穴31を有している。
請求項（抜粋）：
基板を保持するホルダと、このホルダと同電位のものであって少なくとも当該ホルダおよびその上流側の周囲を取り囲むファラデーカップと、このファラデーカップの入口部に設けられていてファラデーカップを基準にして負電圧が印加されるものであってイオンビームが通過する穴を有するサプレッサ電極とを備え、イオンビームをサプレッサ電極の穴およびファラデーカップ内を通してホルダ上の基板に照射する構成のイオン注入装置において、前記ファラデーカップの入口部に、ファラデーカップと同電位のものであってサプレッサ電極の穴に対応する位置に当該穴とほぼ同寸法の穴を有する入口部電極を設けたことを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, C23C 14/48
, H01L 21/265
H01J 37/317 Z
, C23C 14/48 Z
, H01L 21/265 D
