特許

J-GLOBAL ID：200903056065942950

走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 見留 範行
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-310024
公開番号（公開出願番号）：特開平10-144598
出願日： 1996年11月06日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】 レチクルとウエハとの位置合わせを高精度に行ないレチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハ面上に高い光学性能を有して走査投影することのできる走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 第1可動ステージに載置した第1物体面上のパターンを投影光学系により第2可動ステージに載置した第2物体面上に該第1,第2可動ステージを相対的に走査させながら走査投影露光する走査露光機構を有する走査型露光装置において、該走査露光機構は走査投影露光前に予め走査方向に複数の基準マークを形成した基準基板に該第1物体面上に設けた位置合わせマークを潜像マークとして形成し、該基準基板上の基準マークと潜像マークとの位置情報を検出して相互のずれ量を計測し、該ずれ量を補正して該第1物体面上のパターンを該第2物体面上に走査投影露光していること。

請求項（抜粋）：

照明系からの照明光束で第1可動ステージに載置した第1物体面上のパターンを照明し、該第1物体面上のパターンを投影光学系により第2可動ステージに載置した第2物体面上に該第1可動ステージと第2可動ステージを該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させて相対的に走査させながら走査投影露光する走査露光機構を有する走査型露光装置において、該走査露光機構は走査投影露光前に予め走査方向に複数の基準マークを形成した基準基板に該第1物体面上に設けた位置合わせマークを潜像マークとして形成し、該基準基板上の基準マークと潜像マークとの位置情報を検出して双方のずれ量を計測し、該ずれ量を補正して該第1物体面上のパターンを該第2物体面上に走査投影露光していることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 D