特許
J-GLOBAL ID:200903056069334173
酸化チタン膜の製造方法、酸化チタン膜および太陽電池
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-312394
公開番号(公開出願番号):特開2002-121024
出願日: 2000年10月12日
公開日(公表日): 2002年04月23日
要約:
【要約】【課題】光電変換効率に優れる酸化チタン膜、酸化チタン膜の製造方法および太陽電池を提供すること。【解決手段】酸化チタン膜6は、主として酸化チタンで構成される原料8を溶射により、膜状に形成されたものである。この溶射は、陽極ノズル91と、陰極92とを有する溶射ガン9を備えたプラズマ溶射装置を用いて行われる。作動ガス流路93から作動ガスを供給しつつ、陽極ノズル91と陰極92との間にアークを発生させることにより、ジェットプラズマが発生する。さらに、材料通路95から、このジェットプラズマ中に原料8を供給することにより、活性化された原料8が第1の電極3の上面に吸着し、酸化チタン膜4が形成される。原料8は、主として二酸化チタンで構成されたものであるのが好ましい。また、原料8は、平均粒径が10nm〜100μmの粉末であるのが好ましい。原料8は、噴射時において、その中心部付近が固体状態であるのが好ましい。このような溶射は、水素ガスを含む雰囲気中で行われるのが好ましい。
請求項(抜粋):
主として酸化チタンで構成される原料を溶射により、膜状に形成することを特徴とする酸化チタン膜の製造方法。
IPC (3件):
C01G 23/04
, C23C 4/10
, H01L 31/04
FI (4件):
C01G 23/04 C
, C23C 4/10
, H01L 31/04 H
, H01L 31/04 L
Fターム (13件):
4G047CC03
, 4G047CD02
, 4G047CD07
, 4K031AA06
, 4K031CB18
, 4K031CB42
, 4K031DA04
, 4K031EA07
, 4K031EA10
, 5F051AA20
, 5F051CB30
, 5F051DA05
, 5F051FA04
前のページに戻る