特許
J-GLOBAL ID：200903056069717978
CVD装置用ガス噴出ノズル
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-146380
公開番号（公開出願番号）：特開平7-003462
出願日： 1993年06月17日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：
【要約】【目的】基板上に均一な成膜を行うために、原料ガスを安定にしかも均一に基板表面に供給するCVD装置用ガス噴出ノズルを提供する。【構成】筒状の導入部と、該導入部の先端に接合し導入部に連続する開口を有するスカート状の基部と、該基部の開口端に開口を塞いで接合した複数のガス噴出口を設けた凸状の球面板とで構成したことを特徴とするものである。
請求項（抜粋）：
筒状の導入部と、該導入部の先端に接合し導入部に連続する開口を有するスカート状の基部と、該基部の開口端に開口を塞いで接合した複数のガス噴出口を設けた凸状の球面板とで構成したことを特徴とするCVD装置用ガス噴出ノズル。
IPC (2件)：
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