特許
J-GLOBAL ID:200903056084347567
プラズマ滅菌装置及びプラズマ滅菌方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
綿貫 隆夫
, 堀米 和春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-158940
公開番号(公開出願番号):特開2004-357888
出願日: 2003年06月04日
公開日(公表日): 2004年12月24日
要約:
【課題】被滅菌物が収容された滅菌室内にプラズマを供給し、被滅菌物の滅菌処理を終了した滅菌室内の気体を、直接大気中に排出できるプラズマ滅菌装置を提供する。【解決手段】滅菌室10が設けられた耐圧容器12と、滅菌室10内にガス状の殺菌剤を供給する殺菌剤供給手段14と、滅菌室10内に非反応性ガスを供給する非反応性ガス供給手段16と、耐圧容器12の外部に設けられ、滅菌室10内に供給するプラズマを大気圧下で発生するプラズマ発生装置18と、滅菌室10内の気体を排気する真空ポンプ20とを具備するプラズマ滅菌装置であって、該殺菌剤供給手段14からのガス状の殺菌剤によって被滅菌物に第1次殺菌が施された滅菌室10内にプラズマを供給し、被滅菌部物に対して第2次滅菌を施すと共に、滅菌室10内に残留するガス状の殺菌剤を無害化するように、殺菌剤供給手段14、非反応性ガス供給手段16、プラズマ発生装置18及び真空ポンプ20を制御する制御部62が設けられていることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被滅菌物が収納される滅菌室が設けられた耐圧容器と、前記滅菌室内にガス状の殺菌剤を供給する殺菌剤供給手段と、前記滅菌室内に非反応性ガスを供給する非反応性ガス供給手段と、前記耐圧容器の外部に設けられ、前記滅菌室内に供給するプラズマを大気圧下で発生するプラズマ発生装置と、前記滅菌室内の気体を排気する排気手段とを具備するプラズマ滅菌装置であって、
該排気手段によって、内圧が供給される前記ガス状の殺菌剤の蒸気圧以下となるように排気された前記滅菌室内に、前記殺菌剤供給手段によってガス状の殺菌剤を供給して、前記被滅菌物に対して第1次滅菌を施し、
前記第1次滅菌を施した滅菌室には、前記非反応性ガス供給手段によって非反応性ガスを供給し、前記滅菌室内が大気圧近傍に到達したとき、前記プラズマ発生装置からプラズマを前記滅菌室内に供給して、前記被滅菌物に対して第2次滅菌を施すと共に、前記滅菌室内に残留するガス状の殺菌剤を無害化するように、前記殺菌剤供給手段、非反応性ガス供給手段、プラズマ発生装置及び排気手段を制御する制御部が設けられていることを特徴とするプラズマ滅菌装置。
IPC (2件):
FI (3件):
A61L2/14
, A61L2/20 A
, A61L2/20 G
Fターム (15件):
4C058AA12
, 4C058AA21
, 4C058BB06
, 4C058BB07
, 4C058BB09
, 4C058CC01
, 4C058CC02
, 4C058CC03
, 4C058DD04
, 4C058DD06
, 4C058DD11
, 4C058DD16
, 4C058JJ16
, 4C058JJ29
, 4C058KK06
引用特許:
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