特許
J-GLOBAL ID:200903056084742954
水素化方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
津国 肇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-216425
公開番号(公開出願番号):特開平7-165747
出願日: 1994年09月09日
公開日(公表日): 1995年06月27日
要約:
【要約】【目的】特定の光学活性化合物をエナンチオ選択的に製造し、ラセミ体分割を不要にする方法を見いだすこと。【構成】 式(I)〔式中、R1 及びR2 は、αもしくはβ位以外の位置がO原子により任意に中断されているアルキル、または任意に置換されているベンジルを表し;R3 は、水素、低級アルキル、任意に置換されているベンジル、-CO-R4 、-COOR4 または-CONR42を表し;そしてR4 は、低級アルキルまたはアリールを表す〕で示される光学活性化合物をエナンチオ選択的に製造する方法であって、一般式(II)〔式中、R1 、R2 、R3 は、上記の意味を有する〕で示される化合物を、光学活性アトロプ異性のジホスフィン配位子と第VIII属金属との錯体の存在下で、不斉水素化することを特徴とする方法。【化16】
請求項(抜粋):
式(I):【化1】(式中、R1 及びR2 は、αもしくはβ位以外の位置がO原子により場合により中断されていてもよいアルキル、または場合により置換されていてもよいベンジルを表し;R3 は、水素、低級アルキル、場合により置換されていてもよいベンジル、-CO-R4 、-COOR4 または-CONR42を表し;そしてR4 は、低級アルキルまたはアリールを表す)で示される光学活性化合物をエナンチオ選択的に製造する方法であって、一般式(II):【化2】(式中、R1 、R2 、R3 は、上記の意味を有する)で示される化合物を、光学活性アトロプ異性のジホスフィン配位子と第VIII属金属との錯体の存在下で、不斉水素化することを特徴とする方法。
IPC (7件):
C07D309/32
, B01J 31/22
, C07B 53/00
, C07B 57/00 340
, C07B 61/00 300
, C07D309/34
, C07M 7:00
前のページに戻る