特許

J-GLOBAL ID：200903056086201268

成膜装置

発明者： 宮原 弘臣 ,  米倉 義道
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-193060
公開番号（公開出願番号）：特開2001-023907
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 歩留まりの低下を抑制すること。【解決手段】 この成膜装置100は、透明導電膜を形成する常圧熱CVD装置であって、異なる原料ガスを導入する第1から第3の成膜室1〜3を連設した構成である。第1から第3の成膜室1〜3の隔壁51、52には、ガラス基板101を搬送する通し穴(搬送口)42が設けてある。ベルトコンベア4にはヒーター44を備えたトレイ43が設けてある。ガラス基板101は、トレイ43上に載置されて成膜室1〜3間を搬送される。この成膜装置100では、通し穴42を通じてガラス基板101を成膜室1から成膜室2に搬送するから、成膜中のガラス基板101を外部の空気中に曝すことがない。このため、空気中のパーティクルに起因する欠陥を減少できるから、それだけ歩留まりが向上する。

請求項（抜粋）：

CVD法の実施に用いる複数の成膜室を連設し、これら成膜室の境界となる隔壁に基板を搬送するための搬送口を設けると共に当該搬送口を通じて前記基板の搬送を行う基板搬送機構を設けたことを特徴とする成膜装置。

IPC (6件)：

H01L 21/205 ,  B65G 49/00 ,  B65G 49/07 ,  C23C 16/44 ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/205 ,  B65G 49/00 C ,  B65G 49/07 A ,  C23C 16/44 F ,  C23C 16/54 ,  H01L 21/68 A

Fターム (47件)：

4K030AA06 ,  4K030AA11 ,  4K030AA14 ,  4K030BA44 ,  4K030BA45 ,  4K030BA47 ,  4K030BB12 ,  4K030CA06 ,  4K030DA01 ,  4K030DA08 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030GA14 ,  4K030JA09 ,  4K030KA08 ,  4K030KA10 ,  5F031CA02 ,  5F031GA51 ,  5F031MA28 ,  5F031NA09 ,  5F045AA03 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AC01 ,  5F045AC03 ,  5F045AC09 ,  5F045AC11 ,  5F045AE29 ,  5F045AF07 ,  5F045BB08 ,  5F045BB15 ,  5F045DA52 ,  5F045DP03 ,  5F045DP23 ,  5F045DQ15 ,  5F045EB08 ,  5F045EB11 ,  5F045EE14 ,  5F045EF02 ,  5F045EF20 ,  5F045EK03 ,  5F045EK08 ,  5F045EK11 ,  5F045EN05 ,  5F045HA01 ,  5F045HA18 ,  5F045HA24