特許
J-GLOBAL ID:200903056090069145

色素増感型太陽電池の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-315139
公開番号(公開出願番号):特開2000-150005
出願日: 1998年11月05日
公開日(公表日): 2000年05月30日
要約:
【要約】【課題】色素増感型太陽電池が大面積になった場合に、全体の質量を軽くするために比較的薄い導電性基板を採用し、導電性基板上に形成される半導体皮膜の表面積をできるだけ大きくするために粗面化しても基板が変形しない様な色素増感型太陽電池の製造方法を提供する。【解決手段】一方の面に透明導電膜が形成された透明基板を用意する或いは透明基板の一方の面に透明導電膜を形成する工程と、導電性基板を用意し、該導電性基板の一方の面を酸又はアルカリ溶液を用いたエッチング処理により表面粗さを10〜1000μmにする工程と、前記エッチング処理した導電性基板上に金属酸化膜を形成し、該金属酸化膜を多孔質構造にする工程と、前記金属酸化膜に増感色素を付着する工程と、前記透明基板に形成された透明導電膜と、前記導電性基板に形成された増感色素を担持した金属酸化膜とを向かいあわせて接合する工程と、前記接合によって形成された空隙に電解質を注入する工程とを有する色素増感型太陽電池の製造方法。
請求項(抜粋):
一方の面に透明導電膜が形成された透明基板を用意する或いは透明基板の一方の面に透明導電膜を形成する工程と、導電性基板を用意し、該導電性基板の一方の面を酸又はアルカリ溶液を用いたエッチング処理により表面粗さを10〜1000μmにする工程と、前記エッチング処理した導電性基板上に金属酸化膜を形成し、該金属酸化膜を多孔質構造にする工程と、前記金属酸化膜に増感色素を付着する工程と、前記透明基板に形成された透明導電膜と、前記導電性基板に形成された増感色素を担持した金属酸化膜とを向かいあわせて接合する工程と、前記接合によって形成された空隙に電解質を注入する工程とを有する色素増感型太陽電池の製造方法。
IPC (4件):
H01M 14/00 ,  H01G 9/20 ,  H01G 9/00 ,  H01L 31/04
FI (3件):
H01M 14/00 P ,  H01G 9/20 ,  H01L 31/04 Z
Fターム (13件):
5F051AA14 ,  5H032AA06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB05 ,  5H032BB07 ,  5H032BB10 ,  5H032CC16 ,  5H032EE02 ,  5H032EE07 ,  5H032EE16 ,  5H032EE18 ,  5H032HH01 ,  5H032HH04

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