特許
J-GLOBAL ID：200903056094598673
位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-276043
公開番号（公開出願番号）：特開平7-104456
出願日： 1993年10月07日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトマスクを介して露光対象物上にパターンを形成するとき、シフターがある部分とシフターがない部分との間でパターン寸法に誤差が生じるのを防止する。【構成】 シフター4を有しない透光部Tnと、シフター4を有する透光部Taと、そして遮光部Sとを透明基板2上に面内で交互に配列することによって形成された位相シフトマスク1である。シフター4を有する透光部Taの断面内には、照射光L1に関する透過率を低下させるための半透明層10aが設けられる。シフターを有する透光部Taに入射する照射光L1の強度を半透明層10aによって適宜量減少させることにより、その照射光L1の露光対象物上での光強度分布P1を適宜量減少させ、これによりパターン寸法WaとWnとを等しくする。
請求項（抜粋）：
シフターを有しない透光部と、シフターを有する透光部と、そして遮光部とを透明基板上に面内で交互に配列することによって形成された位相シフトマスクにおいて、シフターを有する透光部内に照射光に関する透過率を低下させるための半透明層を形成したことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
