特許

J-GLOBAL ID：200903056117601189

排ガス高度処理システム

発明者： 和田 浩爾 ,  久米 正一
出願人/特許権者： 株式会社還元溶融技術研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-315863
公開番号（公開出願番号）：特開2002-081636
出願日： 2000年09月08日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】ガス集じん機を2基以上の複数にすることで排ガス中のばいじん、ダイオキシン等を十分に捕集する事を目的とする。【解決手段】高炉、コークス炉、シャフト炉、ロータリーキルン、ストーカー炉、流動床炉、キュポラ、直接溶融炉、ガス化溶融炉等の排ガスから集じんするときに、集じん機を2基以上にし、排ガス中のばいじん、ダイオキシン等を十分に捕集する。そのとき集じん機は目的により直列2基にしたり、並列2基などにして使用する。

請求項（抜粋）：

高炉、焼結炉、コークス炉、転炉、シャフト炉、ロータリーキルン、ストーカー炉、流動床炉、キュポラ、直接溶融炉、ガス化溶融炉等の排ガスから集じんするときに、集じん機を2基にする排ガス高度処理システム。

IPC (2件)：

F23J 15/00 ,  B01D 46/00

FI (4件)：

B01D 46/00 F ,  F23J 15/00 Z ,  F23J 15/00 B ,  F23J 15/00 H

Fターム (15件)：

3K070DA03 ,  3K070DA05 ,  3K070DA07 ,  3K070DA16 ,  3K070DA25 ,  3K070DA30 ,  3K070DA32 ,  4D058JA04 ,  4D058KB01 ,  4D058KB11 ,  4D058KB12 ,  4D058NA01 ,  4D058TA02 ,  4D058TA03 ,  4D058TA06